目前制造商们通过X-ray光谱仪和原子力显微镜来测定金属氧化物薄膜的结构。研究人员发现,还可以通过测量这些半导体薄膜的太赫兹吸收特性来精确探索它们的详细结构,这在红外和微波波段是做不到的。