PECVD SiNx 薄膜应力的研究

日期：2015-08-18 大小：0.3M

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等离子增强化学气相淀积(P lasma2enhanced Chem ical V aper Depo sit ion, PECVD )SiN x 薄膜在微电子和微机械领域的应用越来越重要. 它的一个重要的物理参数—— 机械应力, 也逐渐被人们所重视. 本文研究了应力跟一些基本的淀积条件如温度、压力、气体流量等之间的关系. 讨论了应力产生的原因以及随工艺条件变化的机理. 通过工艺条件的合理选择,

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