DAF激光切割设备可实现SiP生产高速化

   日期:2005-12-01     来源:日经BP社     评论:0    
      日本DISCO公司现已开发出DAF(DieAttachedFilm,芯片附加薄膜)激光切割设备,在使用厚度不足100μm的硅芯片生产SiP产品时,可提高生产量。
  DAF是一种插在层叠芯片之间、厚为10μm~数十μm的薄膜。在使用DAF的SiP制造工艺中,通常是先在薄硅晶圆上贴上DAF之后再进行芯片切割。在切割过程中,不仅要切割硅芯片,还要切割DAF。
  过去,在利用硅晶圆切割设备切割DAF时,存在着2大课题。第一,由于硅晶圆切割设备是专为切割硬质材料而设计的,因此用它切割树脂材质的DAF时,切割速度就会下降。这是因为DAF会附着在刀具表面。而在切割硅晶圆时,不仅硅不会附着在刀具表面,而且由于硅的碰撞,刀刃会一点一点地剥落,总是保持可利用新刀刃进行切割的状态,所以速度不易下降。如果是激光装置,不会发生这种速度下降。
  第二个问题是指,必须在切割芯片有可能不以棋盘状进行排列的工序中对DAF进行切割。现有切割设备由于是转动圆盘进行切割,因此基本上都只能切割成直线状。因此,假如芯片的排列不是直线,那么就将很难切割芯片之间的DAF。如果是激光设备,即使芯片的排列不整齐,也能根据排列情况进行切割。据悉,此次的设备已向多家客户交付使用。 
 
  
  
  
  
 
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